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安慶低溫等離子廢氣處理設備的技術(shù)機理

文章出處:本站 人氣:54712 發(fā)表時(shí)間:2021-08-17 19:32:20

低溫等離子廢氣處理設備的技術(shù)機理:

等離子體去除惡臭是通過(guò)兩個(gè)途徑實(shí)現的:一個(gè)是在高能電子的瞬間是高能量作用下,打開(kāi)某些有害氣體分子的化學(xué)鍵,使其直接分解成單質(zhì)原子或無(wú)害分子另一個(gè)是在大量高能電子、離子、激發(fā)態(tài)粒子和氧自由基、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等作用下的氧化分解成無(wú)害產(chǎn)物。主要有下面幾個(gè)過(guò)程:

1、在高能電子作用下,強氧化性自由基O、OH、OH2的產(chǎn)生

2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發(fā),及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子

3、O、OH、HO2與激發(fā)原子、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自由基等發(fā)生一系列反應,有機物分子最終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機物分子結合鍵能的大小有關(guān)。

從除臭機理上分析,主要發(fā)生以下反應:

H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

H2S去除率可達91.9%,NH3去除率可達93.4%,臭氣濃度去除率可達93.6%。

從上述反應來(lái)看,惡臭組分經(jīng)過(guò)處理后,轉變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子,在一定的濃度下,各種反應的轉化率均在95%以上,而且惡臭濃度較低,因此產(chǎn)物的濃度極低,均能被周邊的大氣所接受。

   


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